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华海清科当选的专利是《化学机械抛光机及具有它的化学机械抛光设备》,研讨这项技能助推国产CMP设备向着更高水平开展。该设备可完成晶圆纳米级大局平整化, 新消费下新动满意先进制程技能需求,已在集成电路、先进封装、大硅片等制作工艺中批量使用。
报导(文/吴子鹏)近来,年代国家知识产权局在其官网正式对外发布了第二十五届我国专利奖评定效果。
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